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       摩爾定律一直在推動IC線寬和尺寸的變化。為了跟上技術(shù)發(fā)展的步伐，前端制造設(shè)備和測量設(shè)備中的納米定位機構(gòu)和精密運動控制系統(tǒng)的精度必須達到10倍至1000倍的更高精度和更小特征尺寸。振動、定位誤差和漂移必須控制在0.1nm范圍內(nèi)（原子半徑量級）。傳統(tǒng)的定位系統(tǒng)已經(jīng)無法提供半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)所需的穩(wěn)定性和精度。

       在半導(dǎo)體領(lǐng)域，使用基于壓電陶瓷的解決方案，包括用于減震的長壽命壓電元件，用于定位的超高性能大行程納米定位平臺。其他的精密運動產(chǎn)品還包括用于快速光束穩(wěn)定/角度校正的壓電偏擺平臺，用于納米測量應(yīng)用的壓電柔性納米臺，用于掩模對準的納米對準系統(tǒng)，用于水平和垂直定位的新型混合大行程納米定位臺。電容納米測量傳感器可以測量亞納米尺度的運動并具有很高的帶寬，也大量應(yīng)用在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中。

       隨著光刻工藝的發(fā)展，如今的芯片變得越來越小，硅晶片上也出現(xiàn)了極為精細的結(jié)構(gòu)。原子力顯微鏡(AFM)可實現(xiàn)原子級的高分辨率表面測量，為半導(dǎo)體制造領(lǐng)域帶來了全新的檢測方法。壓電陶瓷驅(qū)動器憑借出眾的性能及可靠性為這些技術(shù)進步做出了貢獻。

現(xiàn)代電子芯片架構(gòu)已經(jīng)縮小到納米級，在半導(dǎo)體工業(yè)生產(chǎn)中基于品質(zhì)控制及高精度測量的要求，壓電驅(qū)動器可提供：

   ? 擺動精準定位控制在µm 和nm 級

   ? 快速半導(dǎo)體研究掃描系統(tǒng)

   ? 晶圓支架和晶圓調(diào)整裝置